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簡(jiǎn)要描述:QPOL VIBRO研磨拋光機(jī)為得到無殘留變形的試樣制備表面而設(shè)計(jì)。它是進(jìn)一步材料表征的理想選擇,例如:EBSD(背散射電子衍射),AFM(原子力顯微鏡)分析和納米壓痕或顯微硬度測(cè)試的理想前序設(shè)備。
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詳細(xì)介紹
Qpol Vibro (Saphir Vibro)振動(dòng)拋光機(jī)為得到無殘留變形的試樣制備表面而設(shè)計(jì)。它是進(jìn)一步材料表征的理想選擇,例如:EBSD(背散射電子衍射),AFM(原子力顯微鏡)分析和納米壓痕或顯微硬度測(cè)試的理想前序設(shè)備。
由于極為溫和的材料去除,該設(shè)備特別適用于軟質(zhì)和韌性材料,如鈦鋁,純銅和銅合金,鋁合金,鋼和鎳基合金。
直徑?= 308mm的大拋光池提供了足夠的空間來拋光填充滿試樣的夾具或大型試樣,可同時(shí)拋光多達(dá)21個(gè)鑲嵌試樣。 拋光池配備有雙磁性系統(tǒng),可以快速固定、移除和清潔底槽或拋光布,無須任何工具或其它的附件??墒褂眠m合磁性系統(tǒng)的直徑為300mm或305mm (12")的拋光布。
· 視所放入的試樣質(zhì)量的不同,自動(dòng)頻率控制會(huì)在60-120 Hz之間選擇最佳的振動(dòng)頻率,因而無需進(jìn)行手動(dòng)調(diào)整。
· 由于可以選擇幾乎不受限的拋光時(shí)間,Qpol Vibro配備有QATM Surface-Guard 防護(hù)功能。它抑制了制備程序結(jié)束后如果操作人員不在跟前而導(dǎo)致的拋光表面再結(jié)晶或腐蝕。
· 預(yù)先安裝好的制備方案和耗材清單,可視材料的不同進(jìn)行選擇
· 預(yù)安裝的耗材清單可以有客戶進(jìn)行編輯或擴(kuò)展
· 可儲(chǔ)存多達(dá)200個(gè)自定義制備方案
為實(shí)現(xiàn)最佳的工作條件,Qpol vibro配備有排氣連接插口,可連接外置排氣裝置。Qpol Vibro的吸振式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)提供低噪音的操作。
可快速更換的帶磁性系統(tǒng)的拋光池
“Surface-Guard"功能降低磨料結(jié)晶和試樣表面腐蝕機(jī)率
從60-120 Hz的自動(dòng)頻率控制,適用于不同質(zhì)量的試樣
直觀的用戶界面和觸摸屏
預(yù)先安裝好的制備方案和耗材清單
低噪音操作,可在無人監(jiān)視的情況下運(yùn)行而且?guī)缀鯖]有時(shí)間限制
排氣連接插口(可連接外置排氣裝置,提升了操作人員的健康、安全條件)
可保存多達(dá)200個(gè)自定義制備程序
拋光槽 | ? 308 mm (兼容300mm或305mm (12")拋光布) |
振動(dòng)頻率 | 60 - 120 Hz |
插頭 | USB, Ethernet |
連接電源 | 0.25 kVA |
運(yùn)行功率 | 135 VA |
寬 x 高 x 深 | 510 x 300 x 590 mm |
重量 | ~ 45 kg |
內(nèi)容可能會(huì)進(jìn)行修改或更正
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